[发明专利]一种光扩散片及其制作方法无效
| 申请号： | 200810020793.8 | 申请日： | 2008-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN101231462A | 公开（公告）日： | 2008-07-30 |
| 发明（设计）人： | 申溯;陈林森;周雷;张恒;解正东;魏国军 | 申请（专利权）人： | 苏州大学;苏州苏大维格数码光学有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G02B5/02;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陶海锋 |
| 地址： | 215123江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光扩散片的制作方法，其特征在于：包括下列步骤：(1)制作至少具有一个微透镜结构的压印模仁；(2)设定计算机压印控制程序、压印参数及图形文件；(3)采用微纳米热压印或紫外压印的方法，将步骤(1)中的压印模仁，根据步骤(2)中的控制程序及图形文件，压印于待压印的基材第一压印工作位置上，基材得到相应个数的凹形微透镜；(4)根据压印参数，改变压印模仁与待压印基材的相对位置，至下一个压印工作位；(5)重复步骤(3)和(4)，直至完成所有压印程序。本发明利用微纳米压印技术直接在基材上压印凹形微透镜，使光扩散层与基材层为一体结构，避免了粘合不牢固、受热膨胀系数不同等造成的散光效果下降、物理变形等现象，有效提高光扩散片的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 扩散 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种光扩散片的制作方法，其特征在于：包括下列步骤：(1)制作至少具有一个微透镜结构的压印模仁；(2)设定计算机控制程序、压印参数及图形文件；(3)采用微纳米热压印或紫外压印的方法，将步骤(1)中的压印模仁，根据步骤(2)中的控制程序及图形文件，压印于待压印的基材第一压印工作位置上，基材得到相应个数的凹形微透镜；(4)根据压印参数，改变压印模仁与待压印基材的相对位置，至下一个压印工作位；(5)重复步骤(3)和(4)，直至完成所有压印程序。
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