[发明专利]纳米修饰高分子材料及制备方法有效
| 申请号： | 200810022012.9 | 申请日： | 2008-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN101319073A | 公开（公告）日： | 2008-12-10 |
| 发明（设计）人： | 路建美;董延茂;徐庆锋;王丽华 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | C08L25/08 | 分类号： | C08L25/08;C08K3/30;C08F212/08;C08F2/44;C09K11/56;C09K11/58;C09K11/57 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陶海锋 |
| 地址： | 215123江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种纳米修饰高分子材料，通过配位反应合成纳米硫化物修饰的4－乙烯基吡啶单体，然后和另一种单体苯乙烯通过无规共聚合成纳米硫化物修饰的4－乙烯基吡啶－苯乙烯无规共聚物。本发明的制备方法高效、简便、降低了生产成本并且易工业化实施，并可以通过控制4－乙烯基吡啶与苯乙烯的摩尔比控制高分子共聚物中的吡啶含量，进而控制纳米修饰高分子材料中纳米粒子的含量。获得的纳米修饰高分子在氙灯光源激发下产生的荧光强度比未经纳米修饰的高分子荧光增强2～3倍，在光、电、催化等领域有着一定的应用潜能。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 修饰 高分子材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种纳米修饰高分子材料，其特征在于：它是由纳米硫化物修饰4-乙烯基吡啶单体和苯乙烯单体的无规共聚物而成的，所述纳米硫化物选自纳米硫化镉、纳米硫化铜、纳米硫化锌、纳米硫化锰中的一种。
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