[发明专利]高陡度凸二次非球面的无像差点法子孔径拼接测量方法有效
申请号: | 200810030819.7 | 申请日: | 2008-03-14 |
公开(公告)号: | CN101241000A | 公开(公告)日: | 2008-08-13 |
发明(设计)人: | 陈善勇;戴一帆;李圣怡;郑子文;丁凌艳;王建敏;王贵林 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24;G01B9/02;G01M11/00;G01M11/02 |
代理公司: | 长沙恒熙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘熙 |
地址: | 410073湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种高陡度凸二次非球面的无像差点法子孔径拼接测量方法,将被测二次非球面划分若干子孔径,使得波面干涉仪发出的测试光束大致照射在其上划分的第一个子孔径区域,在满足无像差点法测试条件下利用波面干涉仪测量子孔径的面形误差并将数据存盘,依此测量第二个子孔径区域直到测量所有子孔径的面形误差,将各子孔径测量数据输入计算机进行处理,通过无像差点法子孔径拼接算法进行全口径面形重构,获得被测二次非球面的面形误差。本发明无需非球面补偿器,是一种低成本、高精度的高陡度凸二次非球面面形误差测量方法。 | ||
搜索关键词: | 陡度 二次 球面 差点 法子 孔径 拼接 测量方法 | ||
【主权项】:
1、一种高陡度凸二次非球面的无像差点法子孔径拼接测量方法,其特征在于采用以下步骤:第一步:根据被测二次非球面的几何参数将其划分若干子孔径,将波面干涉仪、被测二次非球面和球面或平面反射镜安装在相应平台上,使得波面干涉仪发出的测试光束大致照射在被测二次非球面上划分的第一个子孔径区域;第二步:通过调整波面干涉仪或被测二次非球面的位置和姿态,以及球面或平面反射镜的位置和姿态,使得满足无像差点法测试条件,即波面干涉仪发出的球面波测试光束的汇聚点与球面反射镜的曲率中心位于被测二次非球面的一对无像差点上,对于被测二次非球面是抛物面情形,波面干涉仪发出的球面波测试光束的汇聚点与抛物面的焦点重合,而反射镜为平面且垂直于抛物面的对称轴;第三步:利用波面干涉仪测量子孔径的面形误差并将数据存盘;第四步:通过调整波面干涉仪或被测二次非球面的位置和姿态,以及球面或平面反射镜的位置和姿态,使得波面干涉仪发出的测试光束照射在被测二次非球面上划分的第二个子孔径区域且满足无像差点法测试条件,利用波面干涉仪测量子孔径的面形误差并将数据存盘;第五步:重复第四步直到实现被测非球面上划分的所有子孔径的面形误差测量,将各子孔径测量数据输入计算机进行处理,通过无像差点法子孔径拼接算法进行全口径面形重构,获得被测二次非球面的面形误差。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军国防科学技术大学,未经中国人民解放军国防科学技术大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810030819.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种连续进行烷氧基化反应的间隙式反应器
- 下一篇:一种化工反应器