[发明专利]用于光学加工的水基磁流变抛光液及其制备方法无效
| 申请号： | 200810030904.3 | 申请日： | 2008-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN101250380A | 公开（公告）日： | 2008-08-27 |
| 发明（设计）人： | 李圣怡;戴一帆;彭小强;宋辞;石峰;陈善勇;郑子文 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01F1/44 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所 | 代理人： | 陈晖 |
| 地址： | 410073湖南省长沙市砚瓦池正街47号中国*** | 国省代码： | 湖南;43 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于光学加工的水基磁流变抛光液，由下述体积组分组成：水基复配载液25％～75％和添加组分25％～75％，其中添加组分按下述体积百分比分配：羰基铁粉80％～90％，纳米铁粉4％～10％和抛光粉4％～10％，水基复配载液以体积百分比计包括去离子水85％～90％，分散剂3％～5％，润湿剂2％～5％和触变剂3％～5％。其配制方法为将去离子水与触变剂混合，室温下搅拌1～2小时；再加入分散剂，室温下搅拌0.5～1小时；然后加入润湿剂，室温下搅拌0.5～1小时，得水基复配载液；将添加组分与水基复配载液混合，加入球磨罐中，按1∶10质量比加入钢球，以20～30转/分的速度球磨3～5小时，分离出钢球，得产品。本发明的抛光液稳定性好、流变性高、抗氧化性能好且制备工艺简单环保。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 加工 水基磁 流变 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于光学加工的水基磁流变抛光液，其特征在于它由下述体积组分组成：水基复配载液25％～75％和添加组分25％～75％，其中，所述的添加组分为羰基铁粉、纳米铁粉和抛光粉，按下述体积百分比分配：羰基铁粉：80％～90％，纳米铁粉：4％～10％，抛光粉：4％～10％，所述的水基复配载液包括下述按体积百分比计的组分，去离子水：85％～90％，分散剂：3％～5％，润湿剂：2％～5％，和触变剂：3％～5％。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军国防科学技术大学，未经中国人民解放军国防科学技术大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810030904.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：机床加工自动化控制程序
- 下一篇：牛黄抑菌洗液的加工方法
