[发明专利]一种消除CuxO电阻存储器形成电压的方法无效
申请号: | 200810032764.3 | 申请日: | 2008-01-17 |
公开(公告)号: | CN101232076A | 公开(公告)日: | 2008-07-30 |
发明(设计)人: | 林殷茵;陈邦明;吕杭炳 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00;H01L27/24;G11C11/56;G11C16/02 |
代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 | 代理人: | 陆飞;盛志范 |
地址: | 20043*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明属微电子技术领域,具体是一种消除CuxO电阻存储器形成电压的方法。生长完CuxO存储介质后,在N2、Ar、forming gas或真空等缺氧气氛中进行退火,表层CuO会由于缺氧而被还原成Cu2O,从而消除存储器第一次编程时的形成电压,降低写操作电流、电压,保护表层CuO下面的具有电阻转换特性的CuxO存储介质免受大电流破坏。本发明方法工艺简便,成本低,可显著改善CuxO电阻存储器的疲劳特性。 | ||
搜索关键词: | 一种 消除 cu sub 电阻 存储器 形成 电压 方法 | ||
【主权项】:
1.一种消除CuxO电阻存储器形成电压的方法,其特征在于:生长完CuxO存储介质后,在N2、Ar、forming gas或真空缺氧气氛中进行退火,退火温度控制在100~600℃之间,表层CuO会由于缺氧而被还原成Cu2O,从而消除第一次编程时的形成电压,降低写操作电流、电压,保护表层CuO下面的具有电阻转换特性的CuxO存储介质免受大电流破坏;这里1<x≤2。
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