[发明专利]物面像面位置的实时测校装置以及方法有效
| 申请号： | 200810032842.X | 申请日： | 2008-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN101221368A | 公开（公告）日： | 2008-07-16 |
| 发明（设计）人： | 毛方林 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种物面像面位置的实时测校装置以及方法，所述装置包括照明光源系统、投影物镜成像系统、用于支撑并固定掩模版的掩模台、用于支撑并固定晶片的工作台，所述测校装置还包括用于监测物面位置的投影物镜成像系统顶部传感器，以及用于监测像面位置的投影物镜成像系统底部传感器，所述方法监测不同时刻投影物镜成像系统顶部传感器和底部传感器测量结果，通过与初始标定时刻物面像面位置相比较，计算可得不同时刻物面像面漂移量，并对投影系统物面像面位置进行实时校正。通过本发明的测校装置及方法，可以测量待测物面、像面与透镜的相对位置，有效修正光刻装置中投影物镜系统物面、像面漂移值。 | ||
| 搜索关键词： | 物面像面 位置 实时 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种物面像面位置的实时测校装置，其包括照明光源系统、投影物镜成像系统、用于支撑并固定掩模版的掩模台、用于支撑并固定晶片的工作台，其特征在于，所述物面像面位置的实时测校装置还包括用于监测物面位置的投影物镜成像系统顶部传感器，以及用于监测像面位置的投影物镜成像系统底部传感器。
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