[发明专利]硅片边缘曝光系统及其光强控制方法

摘要

本发明提出了一种硅片边缘曝光系统及其光强控制方法，所述系统包括可旋转硅片承载台、曝光光源与光纤、成像镜头、控制计算机以及光强控制装置组成，所述方法通过设置光筛位置后，使用光强控制装置标定曝光光强，通过光源内部光强闭环反馈控制光强的恒定输出，通过检测光筛的位置判断当前是否需要重新标定，通过光强的标定数据控制曝光光源开关和硅片旋转台的旋转时间；应用本发明的系统及方法能够实现光强的阶梯式恒定输出，既充分利于了汞灯光源的强度，又保证了一定时间内的光强恒定输出，提高了硅片边缘曝光工艺的效率和可靠性，此外本发明能够实现多套硅片边缘曝光系统使用一套测光系统，并进一步提出了简化光强控制装置，节省了设备成本。

主权项

1.一种硅片边缘曝光系统，包括可旋转硅片承载台、曝光光源、光纤、成像镜头、控制计算机，其特征在于，所述硅片边缘曝光系统还包括一光强控制装置，所述控制计算机通过所述光强控制装置测得的光强标定数据控制光源进行闭环反馈，输出分阶段恒定光强，并根据预定参数控制所述硅片承载台的旋转以及所述曝光光源的开关，进而实现硅片边缘的曝光。