[发明专利]光刻机投影物镜偶像差原位检测系统及检测方法无效
申请号: | 200810033104.7 | 申请日: | 2008-01-25 |
公开(公告)号: | CN101221372A | 公开(公告)日: | 2008-07-16 |
发明(设计)人: | 袁琼雁;王向朝;邱自成 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种光刻机投影物镜偶像差原位检测系统及检测方法,所述系统包括光源、照明系统、测试掩模、掩模台、投影物镜、工件台、安装在所述工件台上的像传感装置、数据采集卡以及计算机。所述像传感装置包括孔径光阑、成像物镜、光电探测器。所述测试掩模包含一种用于偶像差原位检测的测试标记,由0°、45°、90°、135°四个方向的移相光栅标记组成,光栅的线空比经过优化,达到最大的像差灵敏度。所述的检测方法,是在不同的数值孔径和部分相干因子设置下,通过像传感装置测量所述测试标记的最佳焦面偏移量,然后标定所述投影物镜的偶像差灵敏度系数,再利用偶像差灵敏度系数计算得到所述投影物镜的偶像差。本发明的优点是提高了偶像差的检测精度。 | ||
搜索关键词: | 光刻 投影 物镜 偶像 原位 检测 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光刻机投影物镜偶像差原位检测系统,包括产生照明光束的光源(1),用于调整所述光源(1)发出的光束的束腰尺寸、光强分布和部分相干因子和照明方式的照明系统(2),能承载测试掩模(3)并精确定位的掩模台(4),能将掩模图形成像且其数值孔径可调的投影物镜(5),能精确定位的工件台(6),安装在工件台(6)上的测量测试掩模(3)上的图形成像位置的像传感装置(7),其特征在于所述测试掩模(3)由0°方向偶像差测量标记(31)、45°方向偶像差测量标记(32)、90°方向偶像差测量标记(33)和135°方向偶像差测量标记(34)组成,所述的0°方向偶像差测量标记(31)、45°方向偶像差测量标记(32)、90°方向偶像差测量标记(33)和135°方向偶像差测量标记(34)的移相光栅标记,所述像传感装置(7)由依次相连的孔径光阑(71)、成像物镜(72)、光电探测器(73)、数据采集卡(74)和计算机(75)组成。
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