[发明专利]一种化学机械抛光液无效
| 申请号： | 200810033260.3 | 申请日： | 2008-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN101497765A | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | 王晨;荆建芬;杨春晓 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒和水，其还同时含有双胍类化合物和氮唑类化合物。本发明的抛光液中同时含有的双胍类物质和氮唑类物质具有协同作用，可显著提高多晶硅的去除速率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
1. 一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒和水，其特征在于：其还同时含有双胍类化合物和氮唑类化合物。
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