[发明专利]测量光学系统参数的测量装置及其测量方法有效

专利信息
申请号: 200810033379.0 申请日: 2008-01-31
公开(公告)号: CN101226344A 公开(公告)日: 2008-07-23
发明(设计)人: 刘国淦;蔡燕民 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01B11/27;G01B11/14
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种测量光学系统参数的测量装置,包括短相干光源模块,聚焦透镜,准直透镜,滤波针孔,分光镜,角反射镜,一维精密移动平台,可调焦望远镜,精密旋转工作台,聚焦透镜和成像CCD。一种测量方法,通过光学干涉的方法精确测量被测光学系统的透镜内部或透镜之间的偏心、倾斜、透镜的厚度以及不同透镜之间的距离。本发明提高了透镜的偏心检测精度以满足更高的偏心要求,实现了对光学系统内部间距的最终测量,同时可以测量光学系统装配结束后的间距。
搜索关键词: 测量 光学系统 参数 装置 及其 测量方法
【主权项】:
1.一种测量光学系统参数的测量装置,其特征在于,包含:光源(1),为短相干光源;聚焦镜(2),位于光源(1)下方;针孔(3),位于聚焦镜(2)的下方焦距处;准直透镜(4),位于针孔(3)下方;分光镜(5),位于准直透镜(4)下方;一维移动台,水平设置在分光镜(5)的一侧;角反射镜(6),设置在所述的一维移动台上,随所述的一维移动台进行精确移动;CCD电荷耦合器件(8),水平设置在分光镜(5)的另一侧;可移动聚焦透镜(7),设置在所述分光镜(5)和CCD器件(8)之间;调焦望远镜(9),位于分光镜(5)的下方;精密旋转台(14),位于调焦望远镜(9)下方,该精密旋转台上放置被测光学系统(10),带动被测光学系统(10)做精密旋转。
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