[发明专利]掩模及其设计方法、和使用该掩模制造阵列基板的方法

摘要

本发明涉及一种可以降低新产品阵列基板开发成本的掩模板及其设计方法，该掩模板包括多个第一掩模图形区域，用于通过光刻在玻璃基板上形成多个第一掩模图形，多个第二掩模图形区域，用于通过光刻在玻璃基板上形成多个第二掩模图形，其中所述第一掩模图形区域和所述第二掩模图形区域分别用于阵列基板的不同工艺。该掩模板及其设计方法以及使用该掩模板制造液晶显示装置的阵列基板的方法，可以提高掩模板的使用效率，节省掩模板的费用，从而降低液晶显示装置的成本，尤其是使得新工艺产品在开发和验证时由于掩模板开模费而引起的成本降到最小。

主权项

1. 一种掩模板，用于制造液晶显示装置的阵列基板，包括：多个第一掩模图形区域，用于通过光刻在玻璃基板上形成多个第一面板图形；多个第二掩模图形区域，用于通过光刻在玻璃基板上形成多个第二面板图形；其中所述第一掩模图形区域和所述第二掩模图形区域分别用于阵列基板的不同工艺。