[发明专利]利用无电极电化学腐蚀自停止制作的纳米梁结构与方法

摘要

本发明涉及一种在普通硅片上与衬底绝缘的纳米梁结构及制作方法。其特征在于所述纳米梁通过各向异性湿法腐蚀形成，并通过干法腐蚀结合无电极电化学腐蚀自停止实现梁厚度的控制；纳米梁由金属连线提供力学支撑，金属连线与衬底间电学绝缘；纳米梁的周围与下方为各向异性湿法腐蚀形成的腐蚀区；且纳米梁为可动结构，上下自由振动。本发明是基于各向异性湿法腐蚀、干法刻蚀及无电极电化学腐蚀自停止方法制作的。包括梁区台阶制作、深刻蚀、电学连接与力学支撑结构制作、纳米梁释放四个步骤，具有加工精度高、一致性高、重复性好的特点。

主权项

1、利用无电极电化学腐蚀自停止制作纳米梁的结构，其特征在于所述的纳米梁由金属线条提供力学支撑，它是通过两端面上的引线孔与金属线条连接的，金属线条与硅衬底间有氧化层存在，金属线条与衬底间为化学绝缘，从而实现纳米梁与衬底间的电学隔离。