[发明专利]具有对准标记体系的机器视觉对准系统及其对准方法有效
申请号: | 200810034349.1 | 申请日: | 2008-03-06 |
公开(公告)号: | CN101241319A | 公开(公告)日: | 2008-08-13 |
发明(设计)人: | 徐兵;周畅;蔡巍;谢威;周金明 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G03F1/00;G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种具有对准标记体系的机器视觉对准系统,包含掩模对准系统,硅片对准系统和对准标记系统;掩模对准系统包含掩模版,掩模台,机器视觉对准传感器;硅片对准系统包含硅片,工件台,光学投影物镜,掩模版,机器视觉对准传感器;对准标记系统包含机器视觉工装版,测试掩模版,工艺掩模版,工件台基准版。一种对准方法,通过掩模版和硅片对准结果,从而建立掩模版上电路图案与硅片上各个曝光场之间的相对位置关系。本发明结构简单、加工制造成本低,提高硅片标记的工艺适应性、简化大层间厚度的工艺流程,提高产品生产效率,降低单个产品生产制造成本。 | ||
搜索关键词: | 具有 对准 标记 体系 机器 视觉 系统 及其 方法 | ||
【主权项】:
1.一种具有对准标记体系的机器视觉对准系统,其特征在于,包含:掩模对准系统,硅片对准系统和对准标记系统;所述的掩模对准系统包含:掩模版(2);所述的掩模版(2)包含测试掩模版和工艺掩模版;掩模台(4),设置在掩模版(2)下方,可在水平面内运动;若干机器视觉对准传感器(8)和(9),设置在掩模版(2)上方;所述的硅片对准系统包含:硅片(5),上面设置有硅片对准标记(6);工件台(7),设置在硅片(5)下方,可在水平面内运动;光学投影物镜(1),位于硅片(5)和掩模版(2)之间;掩模版(2);若干机器视觉对准传感器(8)和(9);所述的对准标记系统包含:机器视觉工装版(20),固定于光学投影物镜(1)顶端的机械法阑;测试掩模版(2);工艺掩模版(2);工件台基准版(10),设置在工件台(7)上。
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