[发明专利]一种采用侧壁角监控曝光装置的方法有效
申请号: | 200810035093.6 | 申请日: | 2008-03-25 |
公开(公告)号: | CN101546129A | 公开(公告)日: | 2009-09-30 |
发明(设计)人: | 杨晓松 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人: | 屈 蘅;李时云 |
地址: | 2012*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种采用侧壁角监控曝光装置的方法,侧壁角为曝光装置曝出的晶圆上图案的侧壁角,该方法用于监控曝光装置的聚焦偏移值,先测量待监控的曝光装置不同聚焦偏移值下曝出的晶圆图案侧壁角的大小,再获得侧壁角与曝光装置聚焦偏移值的具体关系式。每次对曝光装置进行监控,只需要测量它完成的曝光制程一定特征尺寸图案的侧壁角,根据具体关系式就可计算监控的曝光装置的聚焦偏移值,判断曝光装置聚焦偏移值是否在阈值范围内,如果不是曝光装置就需要重新校准。侧壁角的测量不受晶圆表面因素的干扰,可准确判断曝光装置的聚焦状态,解决传统监控方法存在的监控精度、稳定性不高的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 采用 侧壁 监控 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】:
1、一种采用侧壁角监控曝光装置的方法,所述侧壁角为曝光装置曝出的晶圆上图案的侧壁角,该方法用于监控曝光装置的聚焦偏移值,其特征在于,它包括以下步骤:步骤1:测量待监控曝光装置在不同的聚焦偏移值下,曝得的晶圆上图案侧壁角的大小;步骤2:根据步骤1得出的曝光装置不同聚焦偏移值下对应的图案侧壁角,得出图案侧壁角与聚焦偏移值的关系式;步骤3:测量待监控的曝光装置曝得的晶圆上图案的侧壁角,根据步骤2得出的侧壁角与聚焦偏移值的关系式计算曝光装置的聚焦偏移值;步骤4:根据步骤3计算出的曝光装置的聚焦偏移值判断曝光装置聚焦偏移值是否在聚焦偏移值的阈值范围内,如果不是,则需要进行曝光装置的校准。
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