[发明专利]用于光刻装置的对准系统和标记、对准方法以及光刻装置

摘要

本发明公开了一种用于光刻装置的对准系统、对准标记、对准方法和光刻装置。通过在像面探测对准标记的第一光栅、第二光栅和第三光栅的±1级衍射光相干成像后经参考光栅调制的光强变化，由透射光信号的相位信息获得对准标记的中心位置。其中由对准标记的第一光栅和第二光栅的对准信号获得对准标记的粗略位置信息，由对准标记的第三光栅的对准信号得到对准标记的精确位置信息。减小了对准标记非对称变形导致的对准位置误差。有效解决信号的串扰问题。提高了光源的能量利用率，有利于提高对准信号强度和探测的动态范围。

主权项

1. 一种用于光刻装置的对准系统，其特征在于：该系统至少包括：光源模块，提供用于对准系统的照明光束；照明模块，传输光源模块的照明光束，照明晶片上的对准标记；成像模块，对对准标记成像，其至少包括物镜和第一成像光路，所述模块通过物镜收集对准标记的反射光和衍射光，并且传输到所述第一成像光路对所述对准标记成像；探测模块，至少包括参考光栅和第一探测光路，所述探测模块通过第一探测光路来探测对准标记经成像模块的第一成像光路成像后并通过参考光栅调制的透射光强，在对准标记扫描过程中得到第一光信号、第二光信号和第三光信号；信号处理和定位模块，用于处理第一光信号、第二光信号和第三光信号，并根据第一光信号、第二光信号和第三光信号的位相信息确定对准标记的中心位置。