[发明专利]用于光刻机的调焦调平装置及测量方法

摘要

一种用于光刻机的调焦调平装置及方法，所述装置的测量光路分布于投影物镜光轴两侧，由照明单元、投影单元、成像单元及探测单元构成，照明单元由光源、透镜组及光纤组成；投影单元由反射镜组、狭缝阵列及透镜组组成；成像单元由反射镜组、透镜组及平行偏转补偿板组成，特点是：探测单元包括分光器、精测光路和粗测光路，分光器将成像单元发射出的光束按光强分束，光束分别进入精测单元和粗测单元。所述方法，根据粗测结果和精测结果来判定调焦调平装置所测得的结果是否在精测范围内，若是，则精测结果有效；反之，则粗测结果有效。本发明由于采用多点检测硅片表面高度，探测单元采用分光器将光斑分成两路，实现了大范围高精度的调焦调平测量。

主权项

1、一种硅片调焦调平测量装置，其测量光路分布于投影物镜光轴的两侧，包括依次以光路连结的照明单元、投影单元、成像单元及探测单元，其中照明单元主要由光源、透镜组及光纤组成；投影单元主要由反射镜组、狭缝阵列及透镜组组成；成像单元主要由反射镜组、透镜组及平行偏转补偿板组成；其特征在于：探测单元包括分光器和与其以光路连结的精测光路及粗测光路，所述分光器将成像单元射出的光束按光强分成两束，一束进入精测单元，一束进入粗测单元，精测光路包括以光路连结的一只扫描反射镜、一个探测狭缝阵列、光电探测器阵列；而粗测光路则包括一只放大透镜组和若干只探测器。