[发明专利]高均匀永磁场装置及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200810037388.7 申请日: 2008-05-14
公开(公告)号: CN101581772A 公开(公告)日: 2009-11-18
发明(设计)人: 赵佑民 申请(专利权)人: 上海爱普生磁性器件有限公司;北京中科三环高技术股份有限公司
主分类号: G01R33/383 分类号: G01R33/383;H01F7/02;A61B5/055
代理公司: 上海金盛协力知识产权代理有限公司 代理人: 罗大忱
地址: 201800*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种高均匀永磁场装置及其制备方法,所述高均匀永磁场装置包括设有样品孔的圆环桶,固定在圆环桶两端的端面板,分别固定在端面板上的两块永磁体,左侧的永磁体相对于中心间隙显示N极,右侧的永磁体相对于中心间隙显示S极,分别固定在永磁体端部的两块平行的导磁轭铁,两块导磁轭铁之间设有间隙。本发明的高均匀永磁场装置,磁场均匀度可达到10-5~10-6,结构简单,没有侧磁铁,堵塞磁铁,制造比较容易,不需耗电。
搜索关键词: 均匀 永磁 装置 及其 制备 方法
【主权项】:
1.高均匀永磁场装置,其特征在于,包括:设有样品孔(701)的圆环桶(7);固定在所说的圆环桶(7)两端的端面板(1);分别固定在所说的端面板(1)上的两块永磁体(2);分别固定在所说的永磁体(2)端部的两块平行的导磁轭铁(5),两块导磁轭铁(5)之间设有间隙(6),左侧的永磁体(2)相对于间隙显示N极,右侧的永磁体(2)相对于间隙显示S极。
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