[发明专利]用于计算机硬盘基片抛光后表面的钝化液组合物无效

专利信息
申请号: 200810040011.7 申请日: 2008-07-01
公开(公告)号: CN101319320A 公开(公告)日: 2008-12-10
发明(设计)人: 雷红 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: C23C22/06 分类号: C23C22/06
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 代理人: 顾勇华
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种用于计算机硬盘基片抛光后表面的钝化液组合物,特别是适用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光后表面的钝化液组合物;属计算机硬盘表面清洗技术领域。本发明的钝化液的组成特点是含有氧化剂、缓蚀剂和表面活性剂及去离子水。其各组分的百分含量为:氧化剂0.05~5.0%;缓蚀剂:0.05~3.0%;表面活性剂0.01~1.0%;去离子水余量。本发明的钝化液组合物对抛光后的计算机硬盘基片进行钝化处理后,可以提高表面的易清洗性,有效降低表面残留的微缺陷数量。
搜索关键词: 用于 计算机 硬盘 抛光 表面 钝化 组合
【主权项】:
1.一种用于计算机硬盘基片抛光后表面的钝化液组合物,其特征在于具有以下的组成及重量百分含量:氧化剂:0.05~5.0%;所述的氧化剂为双氧水、过硫酸、次氯酸、硝酸盐、重铬酸、三价铁或有机过氧酸中的任一种;缓蚀剂:0.05~3.0%;所述的缓蚀剂为甘氨酸、硫脲、氨基磺酸、十二烷基聚氧乙烯醚磷酸酯、羟基苯并三氮唑、钼酸盐或硼酸盐中的任一种;表面活性剂:0.01~1.0%;所述的表面活性剂为烷基硫酸钠、烷基聚氧乙烯醚羧酸钾、或烷基聚氧乙烯醚中的任一种。去离子水:余量。
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