[发明专利]纳米氧化铈复合磨粒抛光液的制备方法无效
申请号: | 200810040033.3 | 申请日: | 2008-07-01 |
公开(公告)号: | CN101302404A | 公开(公告)日: | 2008-11-12 |
发明(设计)人: | 雷红;肖保其;褚凤灵;严琼林;布乃敬;刘平 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) | 代理人: | 顾勇华 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种纳米氧化铈复合磨粒抛光液的制备方法,本发明的特点是以无机研磨粒子为内核,以氧化铈包覆层为外壳,形成核/壳型结构的纳米氧化铈复合磨粒抛光液,属高精密抛光材料制备工艺技术领域。本发明抛光液的制备过程是:先用均相沉淀法制得纳米氧化铈复合磨粒,然后由氧化铈复合磨粒制备抛光液。抛光液的制备过程中,氧化铈复合磨料和水的重量配比为2~10%,加入分散剂0.5~2%,混合物经进一步超声分散或球磨分散后,形成均匀的分散液,随后加入氧化剂0.5~5%,缓蚀剂0.05~0.1%,润滑剂0.05~0.1%(各物量的加入量以水100为参照基准),此即为纳米氧化铈复合磨粒抛光液。本发明的抛光液表现出具有很低的表面粗糙度及划痕水平,得到超光滑的表面。 | ||
搜索关键词: | 纳米 氧化 复合 抛光 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种纳米氧化铈复合磨粒抛光液的制备方法,其特征在于具有以下的过程和步骤:a.氧化铈复合磨粒的制备:在无机研磨剂粒子表面包覆氧化铈,即以无机研磨剂粒子为内核,以氧化铈包覆层为外壳,形成核/壳型结构;氧化铈与无机研磨剂的相对含量为30~60%;所述的无机研磨剂粒子选自氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化钛中的任一种;无机研磨剂粒子表面包覆氧化铈的制备方法采用均相沉淀法,最终得到纳米氧化铈复合磨粒;b.由氧化铈复合磨粒制备抛光液:将上述的氧化铈复合磨粒加入到水中,氧化铈复合磨料与水的重量比为2~10%;加入分散剂,其用量为0.5~2%;用机械搅拌机搅拌,使分散均匀;将上述混合液进一步用超声分散或球磨分散,使形成均匀的分散液;然后加入氧化剂,其用量为0.5~5%;再加入缓蚀剂0.05~0.1%;加入润滑剂0.05~0.1%,此即为纳米氧化铈复合磨粒抛光液;所述的氧化剂为双氧水、过硫酸、硝酸中的任一种;所述的分散剂为六偏磷酸钠、聚乙二醇中的任一种;所述的缓蚀剂为苯并三氮唑;所述的润滑剂为磷酸酯。
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