[发明专利]三扫描式硅片调焦调平测量装置、系统以及方法有效
| 申请号： | 200810040348.8 | 申请日： | 2008-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN101320218A | 公开（公告）日： | 2008-12-10 |
| 发明（设计）人： | 陈飞彪;徐兵;金小兵;张冲 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种三扫描式硅片调焦调平测量装置、系统以及方法，所述装置应用于投影光刻机的调平调焦系统中，所述三扫描式硅片调焦调平测量装置由照明单元、投影单元、成像单元及探测单元组成，所述投影单元将狭缝或者狭缝阵列投影在硅片表面，形成测量光斑或者光斑阵列，所述探测单元包括第一、第二和第三子探测单元；所述成像单元出射的光束分别由第一、第二和第三子探测单元进行相敏解调后进入一数字控制器，所述数字控制器对上述相敏解调的结果进行处理并产生调焦调平测量结果。本发明的三扫描式硅片调焦调平测量装置具有较大的有效线性化区域，且光学设计难度小，结构相对紧凑。 | ||
| 搜索关键词： | 扫描 硅片 调焦 测量 装置 系统 以及 方法 | ||
【主权项】：
1、一种三扫描式硅片调焦调平测量装置，应用于投影光刻机的调焦调平系统中，所述三扫描式硅片调焦调平测量装置由照明单元、投影单元、成像单元及探测单元组成，所述投影单元将狭缝或者狭缝阵列投影在硅片表面，形成测量光斑或者光斑阵列，其特征在于：所述探测单元包括第一、第二和第三子探测单元；所述成像单元出射的光束分别由第一、第二和第三子探测单元进行光信号调制和相敏解调后进入一数字控制器，所述数字控制器对上述相敏解调的结果进行处理并产生调焦调平测量结果。
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