[发明专利]双乙烯基吡啶荧光染料及其制备方法无效
| 申请号： | 200810040464.X | 申请日： | 2008-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN101319093A | 公开（公告）日： | 2008-12-10 |
| 发明（设计）人： | 姜学松;印杰;村上泰治;锻治诚 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学;日立化成工业株式会社 |
| 主分类号： | C09B57/00 | 分类号： | C09B57/00;C09K11/06 |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 | 代理人： | 毛翠莹 |
| 地址： | 200240*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种右式表示的双乙烯基吡啶荧光染料，其中R选自：取代或未取代的苯基、取代或未取代的噻吩基、取代或未取代的呋喃基、取代或未取代的吡啶基、取代或未取代的萘基或取代或未取代的蒽基，R7独立选自氢、卤素、C1－C22烷基、C1－C22烷氧基或氨基。本发明还提供了一种制备上述双乙烯基吡啶荧光染料的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 乙烯基 吡啶 荧光 染料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种双乙烯基吡啶荧光染料，其特征在于其结构式如下：![]()
式中，R选自：取代或未取代的苯基、取代或未取代的噻吩基、取代或未取代的呋喃基、取代或未取代的吡啶基、取代或未取代的萘基或取代或未取代的蒽基；R7独立选自氢、卤素、C1-C22烷基、C1-C22烷氧基或氨基。
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