[发明专利]一种化学机械抛光液无效
| 申请号： | 200810041287.7 | 申请日： | 2008-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN101638557A | 公开（公告）日： | 2010-02-03 |
| 发明（设计）人： | 陈国栋;姚颖;宋伟红;包建鑫;荆建芬 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/14 | 分类号： | C09G1/14 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有溶胶型二氧化硅、速率增助剂、表面活性剂和水。本发明克服现有的用于抛光氧化物介电质的化学机械抛光液中抛光液磨料含量高、抛光表面缺陷高的缺陷，提供了一种抛光液磨料含量低、二氧化硅去除速率高、氮化硅抛光速率低的化学机械抛光液。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
1、一种化学机械抛光液，其含有溶胶型二氧化硅、速率增助剂、表面活性剂和水。
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