[发明专利]一种使用信号处理的方法进行硅片对准的对准系统及方法

摘要

本发明提出了一种使用信号处理的方法进行对准的对准系统及使用该对准系统的对准方法，通过使用步进方式扫描对准标记，基于对准标记及相应的参考光栅的特殊结构，可以通过对扫描得到的光强信号进行数字滤波的方法，提取其光强信号的第三级信号用于对准，通过分析该对准信号振荡波形中最靠近原始光强信号中心位置的峰值位置，可以得到对准位置。本对准系统与对准方法通过步进扫描结合光栅标记与参考光栅的结构设计，并使用扫描光强信号的第三级信号进行对准的方法，因而具有较高的对准精度。

主权项

1、一种用于光刻设备的硅片对准系统，包括：光源模块，激光调制模块，对准标记，照明与成像单元，对准信号采集单元，对准信号处理单元，以及位置采集与运动控制单元；所述光源模块提供照明光，所述激光调制模块调制所述照明光，所述照明与成像单元将硅片对准标记成像于对准信号采集单元的参考光栅上，并由所述对准信号采集单元将光信号转换为数字信号，所述对准信号处理单元对对准信号采集单元输出的信号进行拟合并提取对准位置，所述位置采集与运动控制单元根据该提取出的对准位置，控制工件台运动到指定位置；其特征在于：所述对准标记包括两组排列方向相互垂直的标记，所述每组标记由一组等间距排列的线条构成，相邻线条之间形成沟槽，且线条宽度小于槽宽；所述对准信号采集单元包括光电信号处理器、模数转换模块和数字滤波器。