[发明专利]光刻工艺的监控方法及系统有效
| 申请号： | 200810041567.8 | 申请日： | 2008-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN101650533A | 公开（公告）日： | 2010-02-17 |
| 发明（设计）人： | 杨晓松;刘洪刚 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人： | 屈 蘅;李时云 |
| 地址： | 2012*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻工艺的自动监控方法及系统，其中监控方法包括以下步骤：a.采集工序单元动作的时间；b.存储工序单元动作的时间；c.判断动作的工序单元是否为监控工序单元，其中，若为监控工序单元，执行步骤d，若否，则执行步骤a；d.按监控时间参数与监控的工序单元动作时间的关系式，计算监控时间参数；e.判断步骤d计算出的监控时间参数是否符合标准时间范围，其中若不符合标准时间范围则暂停监控的工序单元。其中监控系统包括以下模块：工序单元触发模块、数据采集模块，数据存储模块、判断模块、计算模块、比较模块和控制模块。本发明可解决传统光刻工艺无法实现工序单元时间参数监控的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 工艺 监控 方法 系统 | ||
【主权项】：
1、一种光刻工艺的自动监控方法，用于光刻工艺装置中执行的工序单元时间参数的监控，其特征在于，它包括以下步骤：a、采集工序单元动作的时间；b、存储工序单元动作的时间；c、判断动作的工序单元是否为监控工序单元，其中，若为监控工序单元，执行步骤d，若否，则执行步骤a；d、按监控时间参数与监控的工序单元动作时间的关系式，计算监控时间参数；e、判断步骤d计算出的监控时间参数是否符合标准时间范围，其中若不符合标准时间范围则暂停监控的工序单元。
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