[发明专利]一种化学机械抛光液无效
| 申请号： | 200810042568.4 | 申请日： | 2008-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN101665662A | 公开（公告）日： | 2010-03-10 |
| 发明（设计）人： | 陈国栋;宋伟红;姚颖 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201201上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有二氧化硅溶胶颗粒、有机羧酸和/或有机膦酸类化合物、硝酸钾和水。本发明为满足用于抛光氧化物介电质的化学机械抛光液的要求，提供了一种氧化物介电质去除速率高的化学机械抛光液。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
1、一种化学机械抛光液，其含有二氧化硅溶胶颗粒、有机羧酸和/或有机膦酸类化合物、硝酸钾和水。
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