[发明专利]用于解决在高台阶基底条件下光刻胶涂布异常的方法无效
| 申请号： | 200810043759.2 | 申请日： | 2008-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN101666979A | 公开（公告）日： | 2010-03-10 |
| 发明（设计）人： | 何伟明;王雷;杨要华 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 201206上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及集成电路制造工艺领域，公开了一种用于解决在高台阶基底条件下光刻胶涂布异常的方法，包括以下步骤：步骤一、在高台阶衬底上首先涂布一层可显影抗反射材料，用于降低表面的台阶上需要涂光刻胶位置起伏的高度；步骤二、在可显影抗反射材料之上涂布光刻胶。通过在高台阶衬底上首先涂布一层相对较薄的可显影抗反射材料，由于可显影抗反射材料平整性较好，且降低表面的台阶高度，高台阶引起的涂布异常和外观缺陷得以消除。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 解决 台阶 基底 条件下 光刻 胶涂布 异常 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于解决在高台阶基底条件下光刻胶涂布异常的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、在高台阶衬底上首先涂布一层可显影抗反射材料，用于降低表面的台阶上需要涂光刻胶位置起伏的高度；步骤二、在可显影抗反射材料之上涂布光刻胶。
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