[发明专利]正性光敏聚酰亚胺光刻胶用显影液有效
| 申请号： | 200810046081.3 | 申请日： | 2008-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN101359189B | 公开（公告）日： | 2011-04-27 |
| 发明（设计）人： | 蒋亚东;唐先忠;王涛;王军 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610054 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 正性光敏聚酰亚胺光刻胶用显影液，属于材料技术领域，涉及光刻工艺，尤其是光刻工艺中的显影技术。本发明提供的正性光敏聚酰亚胺光刻胶用显影液包括5.0～40.0wt％的强碱性化合物、0.5～5.0wt％的水溶性酰胺类化合物、0.01～3.0wt％的非离子表面活性剂、1.0～5.0wt％的水溶性醇或醇醚类化合物和剩余量的水。本发明采用高浓度强碱与水溶性酰胺复配，正性光敏聚酰亚胺光刻胶的曝光区域与非曝光区域在其中的溶解性反差巨大，光刻图形线条敏锐、图像清晰显影时曝光区域不会留下任何残留物。添加非离子表面活性剂和水溶性醇或醇醚类化合物后，显影液的渗透性和分散稳定性更高。 | ||
| 搜索关键词： | 光敏 聚酰亚胺 光刻 显影液 | ||
【主权项】：
正性光敏聚酰亚胺光刻胶用显影液，其组分包括强碱性化合物、水溶性酰胺类化合物、非离子表面活性剂、水溶性醇或醇醚类化合物和剩余量的水；所述强碱性化合物为氢氧化钠或氢氧化钾，其含量为15.0～25.0wt％；所述水溶性酰胺类化合物为乙酰胺、丙酰胺或N，N‑二甲基甲酰胺；若为乙酰胺，其含量为2.0～3.0wt％；若为丙酰胺，其含量为1.5～2.5wt％；若为N，N‑二甲基甲酰胺，其含量为2.5～3.0wt％；所述非离子表面活性剂的含量为0.01～3.0wt％；所述水溶性醇或醇醚类化合物为乙醇或丙醇，其含量为2.0～3.0wt％。
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