[发明专利]一种二阶非线性光学晶体材料及其制备方法和用途无效
| 申请号： | 200810047396.X | 申请日： | 2008-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN101311353A | 公开（公告）日： | 2008-11-26 |
| 发明（设计）人： | 张刚;刘涛;秦金贵;吴以成;陈创天 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | C30B29/12 | 分类号： | C30B29/12;G02B1/02 |
| 代理公司： | 武汉天力专利事务所 | 代理人： | 程祥;冯卫平 |
| 地址： | 43007*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种二阶非线性光学晶体材料，其分子式为NaSb3F10，晶体空间群为P63。该材料的突出特点是：有较大的可相位匹配的二阶非线性光学系数；在紫外、可见光区和红外光区有很大的透光窗口；具有良好的热稳定性；其合成方法：将2∶3的摩尔比称量的NaF和Sb2O3加入到40％的HF酸水溶液中，搅拌至溶液呈透明状，过滤，将滤液置于30～50摄氏度的恒温槽中蒸发，10～30天后，得到六棱柱状的透明晶体。本发明操作简单、反应时间短、实验条件温和、产品纯度高；可利用简单的溶剂挥发法长出质量好、尺寸大的晶体等优点；该晶体材料能广泛应用于光学领域和介电，铁电，热释电，压电等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 非线性 光学 晶体 材料 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
1.一种二阶非线性光学晶体材料，其分子式为NaSb3F10，晶体空间群为P63。
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