[发明专利]钕铁硼磁体表面磁控电弧离子镀不锈钢防护层的方法无效

专利信息
申请号: 200810049156.3 申请日: 2008-01-28
公开(公告)号: CN101220456A 公开(公告)日: 2008-07-16
发明(设计)人: 袁庆龙;侯文义 申请(专利权)人: 河南理工大学
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/16;C23C14/54
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 454000河南省*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明提供一种钕铁硼磁体表面磁控电弧离子镀不锈钢防护层的方法,将钕铁硼磁体抛光后装炉,抽真空3×10-1-100Pa,通氩气15-30Pa;接通直流电源,在钕铁硼磁体与真空室壳体之间加上400-600伏负偏压,通过辉光离子轰击对多孔磁体表面进行预处理,清除磁体表面的油膜、氧化膜,时间3-5min;接通弧光电源,引弧钩与不锈钢靶材之间产生弧光放电,单靶工作电流为40-90A,磁控电弧蒸发出的靶材粒子沉积在磁体表面,形成均匀镀覆的防护层,时间60-120min;关闭弧光电源和直流电源,在氩气保护下降温,出炉后抛光。该方法克服了钕铁硼基体湿镀过程中,镀层有孔隙,导致易脱落而达不到防腐功能的缺陷。
搜索关键词: 钕铁硼 磁体 表面 电弧 离子镀 不锈钢 防护 方法
【主权项】:
1.一种钕铁硼磁体表面磁控电弧离子镀不锈钢防护层的方法,其特征在于:该方法是按下列步骤实现的:第一步、将钕铁硼磁体抛光后装炉,抽真空3×10-1-100Pa,通氩气15-30Pa;第二步、接通直流电源,在钕铁硼磁体与真空室壳体之间加上400-600伏负偏压,通过辉光离子轰击对多孔磁体表面进行净化、活化预处理,清除磁体表面的油膜、氧化膜,时间3-5min;第三步、接通弧光电源,引弧钩与不锈钢靶材之间产生弧光放电,单靶工作电流为40-90A,磁控电弧蒸发出的靶材粒子沉积在磁体表面,形成均匀镀覆的防护层,时间60-120min,由镀膜厚度而定;第四步、关闭弧光电源,关闭直流电源,在氩气保护下降温,出炉后进行抛光处理。
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