[发明专利]一种表面导电聚合物图案的制备方法无效
申请号: | 200810050922.8 | 申请日: | 2008-07-07 |
公开(公告)号: | CN101320209A | 公开(公告)日: | 2008-12-10 |
发明(设计)人: | 吕男;黄春玉;董彬;高立国;杨秉杰;齐殿鹏;田露;吴琼;迟力峰 | 申请(专利权)人: | 吉林大学 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;B82B3/00;C08G73/02;C08G73/06;C08G61/12 |
代理公司: | 长春吉大专利代理有限责任公司 | 代理人: | 张景林;刘喜生 |
地址: | 130023吉林省*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明属于功能材料表面图案构筑技术,具体涉及一种表面导电聚合物图案的制备方法,其是利用旋涂或氧化聚合的方法在基底表面形成导电聚合物的薄膜,然后通过纳米压印将旋涂在导电聚合物薄膜上的聚合物阻挡层压印出图案,以该图案为掩膜进行均向刻蚀,从而在基底表面制备出结构尺寸可控的表面导电聚合物图案。该方法成功解决了高密度和高产量难以并行的难题,在此基础上,表面导电聚合物图案的分辨率较使用的模板提高数倍。具有成本低、效率高、技术成熟的特点,符合工业化标准,可以用于制造光学、电学、磁学、生物学器件,也可以用于传感器和可充放电电池的生产等,显著提高了导电聚合物等功能材料的应用能力。 | ||
搜索关键词: | 一种 表面 导电 聚合物 图案 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种表面导电聚合物图案的制备方法,其步骤如下:(1)在清洁的基底表面通过旋涂或氧化聚合的方法制备10nm~30nm厚的导电聚合物薄膜;(2)在导电聚合物薄膜上旋涂200nm~800nm厚的聚合物阻挡层,并进行纳米压印,形成聚合物阻挡层图案;(3)对聚合物阻挡层图案进行均向氧等离子体刻蚀,然后洗去残留的聚合物阻挡层,从而在基底上得到表面导电聚合物图案。
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