[发明专利]选择性光褪色制备多色发光图案的方法无效
| 申请号： | 200810051679.1 | 申请日： | 2008-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN101445927A | 公开（公告）日： | 2009-06-03 |
| 发明（设计）人： | 吕男;高立国;郝娟媛;胡伟;石刚;迟力峰 | 申请（专利权）人： | 吉林大学 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;B05D7/24;C23C14/12;C23C14/58 |
| 代理公司： | 长春吉大专利代理有限责任公司 | 代理人： | 张景林;刘喜生 |
| 地址： | 130023吉林省*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明属于荧光染料-有机发光小分子发光图案化领域，具体涉及一种通过控制有机发光小分子在聚合物薄膜中的扩散，实现用一种有机发光小分子制备多色发光图案的方法。其首先是选取无机基底，对基底表面进行清洁处理后，通过旋涂的方法覆盖上一层聚合物，聚合物薄膜的厚度为50～300nm；在聚合物的表面蒸镀厚度为1～10nm的有机发光小分子薄膜；在常温常压下放置3～10周后，使有机发光小分子部分渗透到聚合物薄膜中；利用掩模板阻挡，紫外光照射，从而制备得到多色发光图案。本发明所述方法具有制作成本低廉、工艺简单、耗时短的特点，可用于制备大面积的多色发光图案。此方法在制备传感器、发光器件或显示器件中具有广泛的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 选择性 褪色 制备 多色 发光 图案 方法 | ||
【主权项】：
1、选择性光褪色制备多色发光图案的方法，其包括如下步骤：1)选取无机基底，对基底表面进行清洁处理后，通过旋涂的方法覆盖上一层聚合物，聚合物薄膜的厚度为50～300nm；2)在聚合物的表面蒸镀厚度为1～10nm的有机发光小分子薄膜；3)在常温常压下放置3～10周后，使有机发光小分子部分渗透到聚合物薄膜中；4)利用掩模板阻挡，紫外光照射，从而制备得到多色发光图案。
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