[发明专利]提高钛合金烤瓷修复体结合强度的方法无效
| 申请号： | 200810051739.X | 申请日： | 2008-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN101445905A | 公开（公告）日： | 2009-06-03 |
| 发明（设计）人： | 孙大千;邱小明;朱松;段珍珍;刘杰;殷世强 | 申请（专利权）人： | 吉林大学 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C23C14/06;C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 长春吉大专利代理有限责任公司 | 代理人： | 朱世林 |
| 地址： | 130012吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种提高钛合金烤瓷修复体结合强度的方法，以有效解决现有的钛合金烤瓷修复体的结合强度问题。工艺流程：(1)铸造出纯Ti或Ti-Zr合金金属冠，采用喷砂机表面经80-120μm粒度Al2O3喷砂处理，丙酮清洗15min。(2)在超高真空对靶磁控溅射，溅射涂层前真空室背底压强小于1.4×10-4Pa，溅射时的放电气体分别为99.999％Ar和99.999％N2，溅射涂层时的工作气压0.8Pa，溅射电源功率200W，靶材直径为60mm的99.9％Zr片。(3)在纯Ti或Ti-Zr合金金属冠表面溅射6～20umZr或ZrN涂层后，按常规金属烤瓷修复体制作烧结程序，依次烧结粘结瓷。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 钛合金 修复 结合 强度 方法 | ||
【主权项】：
1、一种提高钛合金烤瓷修复体结合强度的方法，其特征在于：在高真空条件下，对Ti及Ti合金表面磁控溅射制备一层Zr表面涂层，磁控溅射Zr表面涂层厚度为：6—20um，Ti/Zr/瓷界面三点弯曲强度：23—30Mpa。
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