[发明专利]发光二极管和激光器制作方法及发光二极管和激光器无效

专利信息
申请号: 200810052484.9 申请日: 2008-03-21
公开(公告)号: CN101246942A 公开(公告)日: 2008-08-20
发明(设计)人: 孟志国;吴春亚;熊绍珍;李娟 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01S5/00
代理公司: 天津佳盟知识产权代理有限公司 代理人: 侯力
地址: 300071*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种发光二极管和激光器制作方法及发光二极管和激光器,方法是将发光二极管和激光器直接外延生长在单晶硅薄膜石英衬底上或外延生长在沉积有缓冲层的单晶硅薄膜石英衬底上。半导体发光二极管结构有与石英衬底键合单晶硅薄膜;形成在石英衬底上的单晶硅电极层;外延生长在单晶硅电极层上的LED的N层;位于LED的N层上的LED发光层;位于LED的发光层上的LED的P层;形成在P层上的LED顶部电极。半导体激光器结构有与石英衬底键合单晶硅薄膜;形成在石英衬底上的单晶硅电极层;外延生长在单晶硅电极层上的LD的N层;位于LD的N层之上的LD的有源层;位于LD的有源层之上的LD的P层;形成在LD的P层之上的LD的顶部电极。本发明可实现LED和LD器件的底发光,可提高LED和LD的发光效率。
搜索关键词: 发光二极管 激光器 制作方法
【主权项】:
1.一种半导体发光二极管和激光器的制作方法,其特征在于,是将发光二极管和激光器是直接外延生长在单晶硅薄膜石英衬底上或外延生长在沉积有缓冲层的单晶硅薄膜石英衬底上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南开大学,未经南开大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810052484.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top