[发明专利]硅基薄膜太阳电池用窗口材料及其制备方法有效
申请号: | 200810052620.4 | 申请日: | 2008-04-07 |
公开(公告)号: | CN101257052A | 公开(公告)日: | 2008-09-03 |
发明(设计)人: | 张晓丹;赵颖;魏长春;孙建;耿新华;熊绍珍 | 申请(专利权)人: | 南开大学 |
主分类号: | H01L31/02 | 分类号: | H01L31/02;H01L31/075;H01L31/18 |
代理公司: | 天津佳盟知识产权代理有限公司 | 代理人: | 侯力 |
地址: | 300071*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了硅基薄膜太阳电池用窗口材料及其制备方法。所述窗口材料为磷掺杂硅基薄膜N,包括磷掺杂N型微晶硅氧薄膜,或者磷掺杂的N型纳米硅氧。该窗口材料的制备是将待处理样品放入沉积系统中,在待处理样品的本征硅基薄膜I上或透明导电薄膜T1上沉积作为硅基薄膜太阳电池用窗口材料的磷掺杂硅基薄膜N。本发明利用微晶硅基或纳米硅基薄膜材料电子和空穴迁移率具有相同数量级的特性,提出了新的硅基薄膜太阳电池用窗口层材料,可在不透明或透明衬底上制备P/I/N型的薄膜太阳电池,也可以在透明衬底上制备N/I/P型的薄膜太阳电池,工艺灵活性提升,更容易获得比较好的电池效率。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 太阳电池 窗口 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、硅基薄膜太阳电池用窗口材料,其特征在于所述的硅基薄膜太阳电池用窗口材料为磷掺杂硅基薄膜N,是在待处理样品的本征硅基薄膜I上或透明导电薄膜T1上沉积磷掺杂硅基薄膜N而制成,该磷掺杂硅基薄膜N为微晶硅氧薄膜,或者磷掺杂的N型纳米硅氧;反应沉积参数为:反应气体压强0.1托以上,辉光功率密度为10-1000毫瓦/平方厘米,待处理样品表面温度为80-350℃,氢稀释硅烷浓度SC<10%,辉光激励频率为13.56MHz-100MHz,含磷气体与硅烷之比PS≤2%。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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