[发明专利]基片上微粒高度测量方法

摘要

本发明公开了一种基片上微粒高度测量方法。该方法采用包括微位移平台、带有CCD摄像机的光学显微镜、计算机和平行光光源所构成装置。测量基片上微粒高度过程包括：将一束平行光以与基片上表面成第一固定角度θ₁照射基片表面微粒，获第一幅数字图像；移动微位移平台一已知距离，获第二幅数字图像；将一束平行光以与基片上表面成第二固定角度θ₂照射基片表面微粒，获第三幅数字图像。由第一幅数字图像和第二幅数字图像测得它们之间的位移D，再由微位移平台移动的已知距离计算光学显微成像系统的放大率β；由第二幅数字图像和第三幅数字图像测得它们之间的位移L，由L/[β(ctg θ₂－ctg θ₁)]计算出微粒距基片表面的高度值。本发明优点在于过程简单，易于实现。

主权项

1. 一种基片上微粒高度测量方法，该方法采用的装置：包括微位移平台(103)，微位移平台上面放置固定微粒的基片(102)，基片上方设置带有CCD摄像机(106)的光学显微镜(105)，计算机(107)控制微位移平台的移动及与CCD摄像机连接，用于照射基片上微粒的平行光光源(104)所构成，对基片上微粒尺寸测量，其特征在于包括以下过程：将一束平行光以与基片上表面成第一固定角度θ1照射到表面固定微粒的基片表面，待测微粒在基片表面形成阴影，光学显微镜将此阴影成像到CCD摄像机上，计算机采集并存储第一幅数字图像；之后计算机控制微位移平台沿着Y轴移动一已知距离，再由计算机采集并存储第二幅数字图像；之后将一束平行光以与基片上表面成第二固定角度θ2照射待测微粒的基片表面，待测微粒在基片表面形成阴影，光学显微镜将此阴影成像到CCD摄像机上，计算机采集并存储第三幅数字图像；由第一幅数字图像和第二幅数字图像测得它们之间的Y轴方向位移D，再由微位移平台移动的已知距离计算出光学显微成像系统的放大率β；由第二幅数字图像和第三幅数字图像测得它们之间的位移L，由L/[β(ctgθ2-ctgθ1)]计算出待测微粒距基片表面的高度值。