[发明专利]LCOS芯片像素器件结构及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200810053147.1 申请日: 2008-05-16
公开(公告)号: CN101281333A 公开(公告)日: 2008-10-08
发明(设计)人: 范义;代永平;范伟 申请(专利权)人: 天津力伟创科技有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;H01L27/105;H01L23/522
代理公司: 天津市杰盈专利代理有限公司 代理人: 赵庆
地址: 300384天津市华苑*** 国省代码: 天津;12
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摘要: LCOS芯片像素器件结构,在一块P型硅衬底上分别按照行与列平行排布若干个像素单元,每行或每列的像素单元包括一由p+-i-P电容器的上极板、薄膜绝缘层、p+-i-P电容器的下极板共同构成的p+-i-P电容器和一NMOS管,所述NMOS管中的NMOS管的漏极与p+-i-P电容器的上极板相连接,每行像素单元中NMOS管的栅极分别向两边延伸直至与左、右两个相邻像素单元中的NMOS管的栅极相连形成一条扫描线,且每行像素单元中的扫描线由一条矩形N型掺杂多晶硅构成;每列像素单元中设置一条信号线,且每列像素单元中NMOS管的源极连接到信号线,并包括所述信号线垂直于所述扫描线。
搜索关键词: lcos 芯片 像素 器件 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
1、LCOS芯片像素器件结构,在一块P型硅衬底(1)上分别按照行与列平行排布若干个像素单元,其特征在于,每行或每列的像素单元包括一由p+-i-P电容器的上极板(23)、薄膜绝缘层(6)、p+-i-P电容器的下极板(22)共同构成的p+-i-P电容器(24)和一NMOS管(12),所述NMOS管(12)中的NMOS管的漏极(8)与p+-i-P电容器的上极板(23)相连接,每行像素单元中NMOS管的栅极(14)分别向两边延伸直至与左、右两个相邻像素单元中的NMOS管的栅极(14)相连形成一条扫描线(31),且每行像素单元中的扫描线(31)由一条矩形N型掺杂多晶硅构成;每列像素单元中设置一条信号线(32),且每列像素单元中NMOS管的源极(11)连接到信号线(32),并包括所述信号线(32)垂直于所述扫描线(31)。
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