[发明专利]LCOS芯片像素器件结构及其制备方法无效
申请号: | 200810053147.1 | 申请日: | 2008-05-16 |
公开(公告)号: | CN101281333A | 公开(公告)日: | 2008-10-08 |
发明(设计)人: | 范义;代永平;范伟 | 申请(专利权)人: | 天津力伟创科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;H01L27/105;H01L23/522 |
代理公司: | 天津市杰盈专利代理有限公司 | 代理人: | 赵庆 |
地址: | 300384天津市华苑*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | LCOS芯片像素器件结构,在一块P型硅衬底上分别按照行与列平行排布若干个像素单元,每行或每列的像素单元包括一由p+-i-P电容器的上极板、薄膜绝缘层、p+-i-P电容器的下极板共同构成的p+-i-P电容器和一NMOS管,所述NMOS管中的NMOS管的漏极与p+-i-P电容器的上极板相连接,每行像素单元中NMOS管的栅极分别向两边延伸直至与左、右两个相邻像素单元中的NMOS管的栅极相连形成一条扫描线,且每行像素单元中的扫描线由一条矩形N型掺杂多晶硅构成;每列像素单元中设置一条信号线,且每列像素单元中NMOS管的源极连接到信号线,并包括所述信号线垂直于所述扫描线。 | ||
搜索关键词: | lcos 芯片 像素 器件 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、LCOS芯片像素器件结构,在一块P型硅衬底(1)上分别按照行与列平行排布若干个像素单元,其特征在于,每行或每列的像素单元包括一由p+-i-P电容器的上极板(23)、薄膜绝缘层(6)、p+-i-P电容器的下极板(22)共同构成的p+-i-P电容器(24)和一NMOS管(12),所述NMOS管(12)中的NMOS管的漏极(8)与p+-i-P电容器的上极板(23)相连接,每行像素单元中NMOS管的栅极(14)分别向两边延伸直至与左、右两个相邻像素单元中的NMOS管的栅极(14)相连形成一条扫描线(31),且每行像素单元中的扫描线(31)由一条矩形N型掺杂多晶硅构成;每列像素单元中设置一条信号线(32),且每列像素单元中NMOS管的源极(11)连接到信号线(32),并包括所述信号线(32)垂直于所述扫描线(31)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津力伟创科技有限公司,未经天津力伟创科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810053147.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:转接通话的方法及装置
- 下一篇:一种获取单板软件的方法