[发明专利]等离子体处理设备及其气体分配装置

摘要

本发明公开了一种气体分配装置，用于等离子体处理设备，包括支撑板以及与其相平行喷头电极，两者之间的空间中水平地设置第一气体分配板；所述第一气体分配板的顶面设有至少一条环绕其中心位置的周向通气槽，以及多条与所述周向通气槽相连通的径向通气槽；所述周向通气槽以及所述径向通气槽之中设有轴向通孔。工艺气体可以沿所述径向通气槽迅速横向扩散，从而实现工艺气体在径向均匀分布；工艺气体还可以由所述径向通气槽进入所述周向通气槽，从而实现工艺气体在周向的均匀分布。因此，本发明所提供的气体分配装置通过简单的结构即可保证工艺气体在反应腔室具有较高的均匀度。

主权项

1、一种气体分配装置，用于等离子体处理设备，包括固定连接于所述等离子体处理设备上电极且水平设置的支撑板(3)，其中心部位具有第一进气通道(31)；所述支撑板(3)的下方固定连接与其相平行喷头电极(5)，两者之间的空间中水平地设置具有多个轴向通孔(43)的第一气体分配板(4)；所述第一气体分配板(4)的中心部位与所述支撑板(3)的中心部位相对应；其特征在于，所述第一气体分配板(4)的顶面设有至少一条环绕其中心位置的周向通气槽(41)，以及多条与所述周向通气槽(41)相连通的径向通气槽(42)；所述轴向通孔(43)设置于所述周向通气槽(41)以及所述径向通气槽(42)之中。