[发明专利]采用时间序列分析预测－校正集成电路制造工艺控制方法无效
| 申请号： | 200810056352.3 | 申请日： | 2008-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN101231508A | 公开（公告）日： | 2008-07-30 |
| 发明（设计）人： | 严利人;刘志弘;窦维治;周卫 | 申请（专利权）人： | 中电华清微电子工程中心有限公司 |
| 主分类号： | G05B13/04 | 分类号： | G05B13/04;G05B17/02;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 史双元 |
| 地址： | 100086北京市海淀区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了属于集成电路制造技术范围的一种采用时间序列分析预测－校正集成电路制造工艺控制方法。将与集成电路制造工艺结果有关的数据，通过建立工艺模型的方式进行分离，剥离出其中与工艺结果有关且易于进行调控的工艺参数；其他参数的影响值按时间顺序排列，形成时间序列；采用时间序列分析的算法处理，例如应用ARMA自回归移动平均模型的建模方法，对该时间序列的总的变化趋势(因而工艺结果的可能的变化趋势)进行预测；通过调整易于调控的工艺参数，补偿所预测到的工艺波动，使工艺结果达到平稳，从而实现工艺条件的动态化处理。在无需硬件投入，不明显增加制造成本的前提下，取得更好的工艺控制效果，从而大大提高工艺结果的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 采用 时间 序列 分析 预测 校正 集成电路 制造 工艺 控制 方法 | ||
【主权项】：
1.一种采用时间序列分析预测-校正集成电路制造工艺控制方法，其特征在于，将与集成电路制造工艺结果有关的数据，通过建立工艺模型的方式进行分离，分离出易于进行调控的工艺参数和对工艺结果有影响的参数，然后将对工艺结果有影响的参数的影响值按时间顺序排列，形成时间序列；采用时间序列分析的算法处理，应用ARMA自回归移动平均模型的建模方法，对该时间序列的总的变化趋势-工艺结果的可能的变化趋势进行预测；通过调整易于调控的工艺参数，对工艺条件的动态化校正，补偿所预测到的工艺波动，使工艺结果达到平稳，从而实现工艺条件的动态化处理，在无需硬件投入，不明显增加制造成本的前提下，取得更好的工艺控制效果。
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