[发明专利]用于制备纳米碳管大面积垂直取向的高压电场处理装置无效

专利信息
申请号: 200810060547.5 申请日: 2008-03-27
公开(公告)号: CN101254915A 公开(公告)日: 2008-09-03
发明(设计)人: 顾征;梁宜勇;夏姣真;顾智企 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: C01B31/02 分类号: C01B31/02;B82B1/00;B82B3/00
代理公司: 杭州中成专利事务所有限公司 代理人: 盛辉地
地址: 310027浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种用于制备纳米碳管垂直取向的高压电场处理装置,由直流可调高压电源1、电压表10、阳极金属板3、阴极金属板7、红外线灯5和基座8组成,可调高压电源1经导线2连接阳极金属板3和阴极金属板7,阳极金属板3和阴极金属板5的两块极板水平平行放置,间距2~5CM之间可调,金属极板的面积大于或等于印刷有纳米碳管层的基板6面积。本发明的高压电场处理装置,可以在大面积基板上获得纳米碳管垂直取向,处理装置简单,操作方法方便。
搜索关键词: 用于 制备 纳米 大面积 垂直 取向 高压 电场 处理 装置
【主权项】:
1、一种用于制备纳米碳管垂直取向的高压电场处理装置,其特征是:主要由直流可调高压电源(1)、电压表(10)、阳极金属板(3)、阴极金属板(7)、红外线灯(5)、短路棒(9)和基座(8)组成;所述可调高压电源(1)经导线连接阳极金属板(3)和阴极金属板(7);所述阳极金属板(3)和阴极金属板(7)的两块极板水平平行放置,固定在基座架上,间距在2~5cm之间可调;所述两金属极板的面积大于或等于印刷有纳米碳管层的基板(6)面积。
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