[发明专利]一种纵向、横向分开聚焦的光谱仪聚焦成像系统无效

专利信息
申请号: 200810062654.1 申请日: 2008-07-03
公开(公告)号: CN101324467A 公开(公告)日: 2008-12-17
发明(设计)人: 虞潜 申请(专利权)人: 虞潜
主分类号: G01J3/02 分类号: G01J3/02;G01J3/28;G02B17/08;G02B27/09
代理公司: 杭州九洲专利事务所有限公司 代理人: 王洪新
地址: 310002浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种光学仪器的聚焦成像系统。所要解决的技术问题是:该光谱仪应具有灵敏度高、分辨率高的特点。技术方案是:一种纵向、横向分开聚焦的光谱仪聚焦成像系统,设置在光谱仪的色散系统与接收系统之间,其特征在于:所述的聚焦成像系统包括横向聚焦成像系统和纵向聚焦成像系统,两个系统相互垂直独立设置,经色散系统分散的平行光依次通过相互垂直的横向聚焦成像系统和纵向聚焦成像系统后,由接收系统接收。
搜索关键词: 一种 纵向 横向 分开 聚焦 光谱仪 成像 系统
【主权项】:
1、一种纵向、横向分开聚焦的光谱仪聚焦成像系统,设置在光谱仪的色散系统(4)与接收系统(7)之间,其特征在于:所述的聚焦成像系统(6)包括横向聚焦成像系统(8)和纵向聚焦成像系统(9),两个系统相互垂直设置,经色散系统分散的平行光依次通过相互垂直的横向聚焦成像系统和纵向聚焦成像系统后,由接收系统接收。
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