[发明专利]一种提高TiNi合金支架在X－光下显影性的方法无效
| 申请号： | 200810064031.8 | 申请日： | 2008-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN101230445A | 公开（公告）日： | 2008-07-30 |
| 发明（设计）人： | 隋解和;成艳;高智勇;蔡伟 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/34;C23C14/16;A61F2/82;A61L31/08 |
| 代理公司： | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 | 代理人： | 金永焕 |
| 地址： | 150001黑龙江*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 一种提高TiNi合金支架在X－光下显影性的方法，它涉及一种提高TiNi合金在X－光下显影性的方法。它解决了现有技术中提高TiNi合金支架在X－光下显影性的方法存在工艺复杂、成本高、降低了TiNi合金的机械性能或是降低TiNi合金的相变温度的问题。其方法：将TiNi合金支架化学抛光后清洗、吹干，然后放入多弧离子镀炉中，先进行溅射清洗，再用钽离子轰击溅射清洗后的TiNi合金支架并沉积，然后冷却至室温取出。本发明一种提高TiNi合金支架在X－光下显影性的方法，不影响TiNi合金的相变温度和机械性能，工艺简单、成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 tini 合金 支架 显影 方法 | ||
【主权项】：
1.一种提高TiNi合金支架在X-光下显影性的方法，其特征在于提高TiNi合金支架在X-光下显影性的方法按以下步骤实现：一、将TiNi合金支架化学抛光，再放入丙酮中超声波清洗，然后吹干；二、吹干后的TiNi合金支架放入多弧离子镀炉中，抽真空至10-4～10-5Pa，再通入氩气至0.2～0.3Pa，在TiNi合金支架加上800～1100V的负偏压，进行溅射清洗，持续时间为20～40min；三、溅射清洗后，在弧流为70～80A、负偏压为100～500V的条件下用钽离子轰击TiNi合金支架并沉积，轰击时间为30～160min，然后冷却至室温取出，得镀钽层的TiNi合金支架。
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