[发明专利]单斜晶系晶态氧化铜的制备方法及用途无效

专利信息
申请号: 200810067243.1 申请日: 2008-05-16
公开(公告)号: CN101318689A 公开(公告)日: 2008-12-10
发明(设计)人: 陈昌铭;温炎燊;李丹阳;刘艳帅;毛鹏举 申请(专利权)人: 深圳市危险废物处理站
主分类号: C01G3/02 分类号: C01G3/02
代理公司: 深圳市中知专利商标代理有限公司 代理人: 成义生
地址: 518049广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种单斜晶系晶态氧化铜的制备方法及用途,它包括如下步骤:a.在反应容器中加入浓度为5~50%,体积为反应容器体积的30~80%的氢氧化钠或者氢氧化钾水溶液,预热至30~100℃,然后加入晶态碱式氯化铜,加入量为氢氧化钠摩尔数的1/6~1/3,在反应温度为30~100℃及搅拌条件下反应10~60分钟;b.反应后的物料经洗涤、抽滤、离心、干燥,制得晶态氧化铜;c.将晶态氧化铜用物理方法粉碎,制得粒度更细的活性氧化铜。该方法易于使碱式氯化铜和氧化铜与其它水溶性背景盐实现分离,且工艺简单、生产成本低,制备的晶态氧化铜收率高,纯度高,活性高,质量优良,适合规模化生产。
搜索关键词: 单斜 晶系 晶态 氧化铜 制备 方法 用途
【主权项】:
1、一种单斜晶系晶态氧化铜的制备方法,其特征在于,它包括如下步骤:a、在反应容器中加入浓度为5~50%,体积为反应容器体积的30~80%的氢氧化钠或者氢氧化钾水溶液,预热至30~100℃,然后加入晶态碱式氯化铜,加入量为氢氧化钠摩尔数的1/6~1/3,在反应温度为30~100℃、pH值大于9及搅拌条件下反应10~60分钟;b、反应后的物料经洗涤、抽滤、离心、干燥,制得晶态氧化铜;c、将晶态氧化铜用物理方法粉碎,制得粒度更细的活性氧化铜。
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