[发明专利]烤烟凹形双垄全生育期地膜覆盖栽培技术模式

摘要

一种烤烟凹形双垄全生育期地膜覆盖栽培技术模式，烟地按220cm垄宽开厢起凹形双垄，双垄的高为15-35cm，凹形垄的两行垄峰间的行间距为100cm，两行垄峰间设凹垄槽，凹形双垄与相邻的另一凹形双垄的垄峰间距为120cm，用宽200cm的农用塑料地膜，覆盖于凹形双垄垄上，凹形垄峰上每行按株距55-60cm开设栽植烟苗移栽孔，凹垄槽的深度为8-12cm，并在凹槽谷底纵向每隔60cm，在农用塑料地膜上开设直径为1cm的透水孔，施基肥在覆膜前施入，追肥在移栽后20天施入。本发明能有效的集水、保水、保肥、调温、保墒、抑杂草，减少肥料投入、省工、能有效的增加烟叶的产量质量，增加烟农的经济收益。

主权项

1、一种烤烟凹形双垄全生育期地膜覆盖栽培技术模式，其特征在于：在烟地上起凹形垄(5)，垄宽(6)按220cm开厢，的垄高(7)为15-35cm，双垄两行垄峰间的行间距为100cm，两行垄峰间形成一凹垄槽(4)，凹形双垄与相邻的另一凹形双垄间距(8)为120cm，用宽200cm的农用塑料地膜(1)，覆盖于凹形双垄上，凹形垄峰上每行按株距55-60cm开设栽植烟苗移栽孔(3)，凹形双垄的凹垄槽(4)深度为8-12cm，凹垄槽谷底内纵向每隔适当距离在农用塑料地膜(1)上开设透水孔(2)，施基肥采用大窝穴施或条状施肥，并在覆盖前施入，追肥在移栽后20-25天施入。