[发明专利]微波陶瓷元器件制作的激光微调刻蚀方法无效
| 申请号： | 200810070675.8 | 申请日： | 2008-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN101234913A | 公开（公告）日： | 2008-08-06 |
| 发明（设计）人： | 熊兆贤;郑建森;肖芬;杨国山;薛昊 | 申请（专利权）人： | 厦门大学 |
| 主分类号： | C04B41/91 | 分类号： | C04B41/91;B23K26/36;B23K26/40 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所 | 代理人： | 马应森 |
| 地址： | 361005福*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 微波陶瓷元器件制作的激光微调刻蚀方法，涉及一种微波介质陶瓷元器件。提供一种可微细调节，具有速度快、成本低、效率高、可连续监控等优点的微波陶瓷元器件制作的激光微调刻蚀方法。用网络分析仪测试出微波陶瓷的微波介电性能，打开激光仪，选择微调刻蚀的形状和大小，设置加工参数，如速度、电流、频率、加工方式、加工次数；将激光束对准待刻蚀的微波陶瓷，聚焦，微调刻蚀；用网络分析仪测试经过微调刻蚀的微波陶瓷的微波介电性能，观察并比较微调刻蚀前后的微波陶瓷的谐振频率fc、品质因子Q值等，根据预先设定的微波陶瓷的微波介电性能参数，判断是否需继续微调刻蚀，若需要，重复上述步骤，至达到预先设定的微波陶瓷的微波介电性能参数。 | ||
| 搜索关键词： | 微波 陶瓷 元器件 制作 激光 微调 刻蚀 方法 | ||
【主权项】：
1.微波陶瓷元器件制作的激光微调刻蚀方法，其特征在于包括以下步骤：1)用网络分析仪测试出微波陶瓷的微波介电性能参数；2)打开激光仪，选择微调刻蚀的形状和大小，并设置好有关加工参数；3)将激光仪的激光束对准待刻蚀的微波陶瓷，聚焦完毕后，即可微调刻蚀；4)用网络分析仪测试经过微调刻蚀的微波陶瓷的微波介电性能参数；5)观察并比较微调刻蚀前后的微波陶瓷的微波介电性能参数数据，根据预先设定的微波陶瓷的微波介电性能参数，判断是否需要继续微调刻蚀，若需要继续微调刻蚀，重复步骤2～5，至达到预先设定的微波陶瓷的微波介电性能参数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门大学，未经厦门大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810070675.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
