[发明专利]检验方法和设备、光刻设备、光刻单元和器件制造方法无效
| 申请号： | 200810074072.5 | 申请日： | 2008-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN101251718A | 公开（公告）日： | 2008-08-27 |
| 发明（设计）人： | 亚历山大·斯卓艾杰尔;罗纳德·弗朗西斯科斯·赫尔曼·休格斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01J9/00;G01B11/24 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种检验方法和设备、光刻设备、光刻单元和器件制造方法。具体地，本发明涉及为了确定衬底属性而进行的、对从衬底衍射的四个独立的偏振束的同时测量。圆偏振光源或椭圆偏振光源经由多达三个偏振元件通过。这将光源偏振化为0、45、90和135°。多个偏振分束器替代相位调制器的使用，但是能够进行所有四个束的强度的测量，并因此能够进行经过组合的束的相位调制和幅度的测量，以给出衬底的特征。 | ||
| 搜索关键词： | 检验 方法 设备 光刻 单元 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种被配置用于测量衬底的属性的检验设备，所述检验设备包括：光源，所述光源被配置用于提供辐射束；光学元件，所述光学元件被配置用于将辐射束聚焦到衬底上；偏振装置，所述偏振装置被配置用于将辐射束的至少四个部分偏振化成四个不同的偏振取向；以及检测器系统，所述检测器系统被配置用于同时检测所述辐射束的四个偏振取向的角分解谱。
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