[发明专利]一种用来制造具有柱状底电极相变化存储装置的方法有效
申请号: | 200810074221.8 | 申请日: | 2008-02-13 |
公开(公告)号: | CN102522374A | 公开(公告)日: | 2012-06-27 |
发明(设计)人: | 龙翔澜;陈介方;陈逸舟;陈士弘;蓝中弘;乔瑟夫;艾瑞克安德鲁;史克鲁特;亚历桑德罗加布里尔;马修J·布雷杜斯克;柏尔;杰弗里威廉;汉普D·汤玛斯;菲利普;骞鲍里斯 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司;国际商用机器公司;奇梦达股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/82 | 分类号: | H01L21/82;H01L45/00;H01L27/24;G11C11/56;G11C16/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种用来制造伞状相变化存储器的方法,在一衬底上制造一底电极材料柱,而该衬底包含一导电接点阵列与存取电路电性连接。沉积一电极材料层并与该导电接点阵列可靠的电性连结。刻蚀电极材料以在对应的导电接点上形成一电极材料柱图案。接着,在该图案上沉积一介电材料以及平面化,以提供一电极表面并裸露出该电极柱的顶表面。接着沉积一可编程电阻材料,例如:硫属化物或其它相变化材料,之后再沉积一顶电极材料层。本发明是描述一种底表面大于顶表面的电极柱的装置。 | ||
搜索关键词: | 一种 用来 制造 具有 柱状 电极 相变 存储 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种制造多个存储单元的方法,其特征在于,该方法包含:提供一包含供该多个存储单元用的存取电路的一衬底,该衬底具有一导电接点阵列的一接点表面,且该导电接点阵列连接至该存取电路;在该衬底的该接点表面上形成一底电极材料层;移除该底电极材料层的一部分,以形成一电极柱图案于导电接点阵列中相对应的导电接点上;形成一介电材料层,而其覆盖于该电极柱图案及该接点表面的裸露部位;平面化该介电材料层及该电极柱,以提供一电极表面来露出该电极柱图案中的该电极柱顶部;在该电极表面上形成一可编程电阻材料层;在该可编程电阻材料层上形成一顶电极材料层;以及图案化该可编程电阻材料层及该顶电极材料层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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