[发明专利]一种用来制造具有柱状底电极相变化存储装置的方法有效

专利信息
申请号: 200810074221.8 申请日: 2008-02-13
公开(公告)号: CN102522374A 公开(公告)日: 2012-06-27
发明(设计)人: 龙翔澜;陈介方;陈逸舟;陈士弘;蓝中弘;乔瑟夫;艾瑞克安德鲁;史克鲁特;亚历桑德罗加布里尔;马修J·布雷杜斯克;柏尔;杰弗里威廉;汉普D·汤玛斯;菲利普;骞鲍里斯 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司;国际商用机器公司;奇梦达股份有限公司
主分类号: H01L21/82 分类号: H01L21/82;H01L45/00;H01L27/24;G11C11/56;G11C16/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周国城
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种用来制造伞状相变化存储器的方法,在一衬底上制造一底电极材料柱,而该衬底包含一导电接点阵列与存取电路电性连接。沉积一电极材料层并与该导电接点阵列可靠的电性连结。刻蚀电极材料以在对应的导电接点上形成一电极材料柱图案。接着,在该图案上沉积一介电材料以及平面化,以提供一电极表面并裸露出该电极柱的顶表面。接着沉积一可编程电阻材料,例如:硫属化物或其它相变化材料,之后再沉积一顶电极材料层。本发明是描述一种底表面大于顶表面的电极柱的装置。
搜索关键词: 一种 用来 制造 具有 柱状 电极 相变 存储 装置 方法
【主权项】:
一种制造多个存储单元的方法,其特征在于,该方法包含:提供一包含供该多个存储单元用的存取电路的一衬底,该衬底具有一导电接点阵列的一接点表面,且该导电接点阵列连接至该存取电路;在该衬底的该接点表面上形成一底电极材料层;移除该底电极材料层的一部分,以形成一电极柱图案于导电接点阵列中相对应的导电接点上;形成一介电材料层,而其覆盖于该电极柱图案及该接点表面的裸露部位;平面化该介电材料层及该电极柱,以提供一电极表面来露出该电极柱图案中的该电极柱顶部;在该电极表面上形成一可编程电阻材料层;在该可编程电阻材料层上形成一顶电极材料层;以及图案化该可编程电阻材料层及该顶电极材料层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旺宏电子股份有限公司;国际商用机器公司;奇梦达股份有限公司,未经旺宏电子股份有限公司;国际商用机器公司;奇梦达股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810074221.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top