[发明专利]保护层材料、其制法、保护层以及等离子体显示面板无效
申请号: | 200810080658.2 | 申请日: | 2008-02-28 |
公开(公告)号: | CN101256922A | 公开(公告)日: | 2008-09-03 |
发明(设计)人: | 李玟锡;马图利维克·尤利;金石基;崔钟书;金荣洙;秋希伶;金德炫;徐淳星 | 申请(专利权)人: | 三星SDI株式会社 |
主分类号: | H01J9/00 | 分类号: | H01J9/00;H01J17/02;H01J17/49 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 宋莉 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 用于制备PDP保护层的材料,其减少放电延迟时间、改进温度依赖性以及具有增强的离子强度;制备该材料的方法;由该材料形成的保护层;和包括该保护层的PDP。更具体地,包括以2.0×10-5-1.0×10-2重量份/1重量份氧化镁(MgO)的量的掺杂有稀土元素的单晶氧化镁的用于保护层的材料,通过在约2,800℃下使其结晶制备该单晶氧化镁的方法,由该材料形成的保护层,以及包括该保护层的PDP。 | ||
搜索关键词: | 保护层 材料 制法 以及 等离子体 显示 面板 | ||
【主权项】:
1.一种用于制备等离子体显示面板保护层的材料,包括:单晶氧化镁;和稀土元素,其中所述单晶氧化镁掺杂有所述稀土元素。
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