[发明专利]保护层材料、其制法、保护层以及等离子体显示面板无效
| 申请号： | 200810080658.2 | 申请日： | 2008-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN101256922A | 公开（公告）日： | 2008-09-03 |
| 发明（设计）人： | 李玟锡;马图利维克·尤利;金石基;崔钟书;金荣洙;秋希伶;金德炫;徐淳星 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | H01J9/00 | 分类号： | H01J9/00;H01J17/02;H01J17/49 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 用于制备PDP保护层的材料，其减少放电延迟时间、改进温度依赖性以及具有增强的离子强度；制备该材料的方法；由该材料形成的保护层；和包括该保护层的PDP。更具体地，包括以2.0×10－5－1.0×10－2重量份/1重量份氧化镁(MgO)的量的掺杂有稀土元素的单晶氧化镁的用于保护层的材料，通过在约2,800℃下使其结晶制备该单晶氧化镁的方法，由该材料形成的保护层，以及包括该保护层的PDP。 | ||
| 搜索关键词： | 保护层 材料 制法 以及 等离子体 显示 面板 | ||
【主权项】：
1.一种用于制备等离子体显示面板保护层的材料，包括：单晶氧化镁；和稀土元素，其中所述单晶氧化镁掺杂有所述稀土元素。
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