[发明专利]含有含氟聚合物的去污剂有效

专利信息
申请号: 200810080712.3 申请日: 2008-02-05
公开(公告)号: CN101289525A 公开(公告)日: 2008-10-22
发明(设计)人: 山本育男;上杉宪正 申请(专利权)人: 大金工业株式会社
主分类号: C08F214/18 分类号: C08F214/18;C11D3/37;C08F220/26
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 刘春成
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种含氟共聚物,其以(A)源自CH2=C(-X)-COO-(Y)l-Z-MfmMrn-H(I)所示的含氟大分子单体的重复单元和(B)源自聚亚烷基二醇(甲基)丙烯酸酯的重复单元为必要成分,在式(I)中,X为氢原子或甲基;Y为-CH2CH(OH)CH2-或-R1-NHCO-;l为0或1;Z为-L1-L2-S-(其中,L1为直接键合、-O-、-COO-或-NH-,L2为亚烷基或芳基,S表示硫原子);MfmMrn为由源自含氟单体(Mf)的m个单元和源自不含氟单体(Mr)的n个单元构成的含氟化合物低聚物。该含氟共聚物提供维持洗涤耐久性,并且赋予优异的拨油性、防污性、去污性的去污剂。
搜索关键词: 含有 聚合物 去污剂
【主权项】:
1.一种含氟共聚物,其特征在于:以(A)源自通式(I)所示的含氟大分子单体的重复单元和(B)源自聚亚烷基二醇(甲基)丙烯酸酯的重复单元为必要成分,CH2=C(-X)-COO-(Y)1-Z-Mf mMr n-H (I)式中,X为氢原子或甲基;Y为-CH2CH(OH)CH2-或-R1-NHCO-,其中,R1为-(CH2CH2O)a(CH2)b-,a为0~20,b为1~20;l为0或1;Z为-L1-L2-S-,其中,L1为直接键合、-O-、-COO-或-NH-,L2为碳原子数1~20的亚烷基或碳原子数6~20的芳基,S表示硫原子;Mf mMr n为由源自含氟单体(Mf)的m个单元和源自不含氟单体(Mr)的n个单元构成的含氟化合物低聚物,其中,m为2~50,n为0~20。
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