[发明专利]微细构造体的制造方法无效

专利信息
申请号: 200810080736.9 申请日: 2008-02-18
公开(公告)号: CN101251617A 公开(公告)日: 2008-08-27
发明(设计)人: 尼子淳 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02;G03F7/20;G02B5/30
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李贵亮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种可以实现分辨率高的微细构造体的技术。该微细构造体的制造方法包括:(a)通过使两束激光束(B1,B2)交叉而产生含有干涉条纹的第一光;(b)对具有热非线性特性的对象物(19)照射所述第一光,由此,在所述对象物上形成与所述第一光的所述干涉条纹的周期相对应而配置的变性区域(21)和非变性区域;(c)对所述对象物进行蚀刻,选择性地除去所述变性区域或所述非变性区域的任意一个。
搜索关键词: 微细 构造 制造 方法
【主权项】:
1、一种微细构造体的制造方法,包括:(a)通过使两束激光束交叉而产生含有干涉条纹的第一光;(b)对具有热非线性特性的对象物照射所述第一光,由此,在所述对象物上形成与所述第一光的所述干涉条纹的周期相对应而配置的变性区域和非变性区域;(c)对所述对象物进行蚀刻,选择性地除去所述变性区域或所述非变性区域的任意一个。
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