[发明专利]台系统和包括这种台系统的光刻设备

摘要

本发明公开了一种用于光刻设备的台系统，所述台系统包括：台；超定数量的致动器，所述致动器用于对台进行作用；至少两个传感器，用于测量台的位置依赖参数，并用于提供各个传感器信号。所述至少两个传感器设置用于测量在相同的自由度上的各个位置依赖参数。控制器设置用于根据选定点和被至少一个传感器测量的位置依赖参数，将控制器输出信号提供给至少一个致动器。另一控制器设置有由传感器所测量到的位置依赖参数。另一控制器确定来自传感器的位置依赖参数之间的差别，并根据所确定的差别，将另一控制器输出信号提供到至少一个致动器。并且，本发明公开了一种包括所述台系统的光刻设备。

主权项

1.一种用于光刻设备的台系统，所述台系统包括：台；多个致动器，所述多个致动器被配置用于对台进行作用，所述致动器在致动器的自由度上是超定的；至少两个传感器，所述至少两个传感器的每一个被配置用于测量台的位置依赖参数，并用于提供各自的传感器信号，所述至少两个传感器被设置用于测量在传感器自由度上的各自的位置依赖参数；控制器，所述控制器被配置用于响应选定点和被至少一个传感器测量的位置依赖参数，将控制器输出信号提供给所述多个致动器中的至少一个；以及另一控制器，所述另一控制器设置有由至少两个传感器所测量的位置依赖参数，所述另一控制器被构造用于确定来自至少两个传感器的位置依赖参数之间的差，并响应所确定的差，将另一控制器输出信号提供到所述多个致动器中的至少一个。